SPA2800H大气低温等离子清洗机 产品简介： 大气等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，结构简单，安装方便，可对塑料、橡胶、金属、玻璃、陶瓷、纸质等材料进行表面处理，已经广泛应用于印刷、包装、电子、汽车等行业。

PLUTO-T小型等离子清洗机 产品特点： 1.具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。 2.对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性 3.完全彻底地清除样品表面的有机污染物。 4.定时处理、快速处理、清洗效率高。

Pluto-MD等离子去胶机 产品介绍： 去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光，紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题，将直接影响后续工艺的顺利完成。PLUTO-MD使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精细控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光

大气低温等离子清洗机SPA2800H 产品简介： 大气等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，结构简单，安装方便，可对塑料、橡胶、金属、玻璃、陶瓷、纸质等材料进行表面处理，已经广泛应用于印刷、包装、电子、汽车等行业。

PLUTO-T小型等离子清洗机 产品特点： 1.具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。 2.对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。 3.完全彻底地清除样品表面的有机污染物。 4.定时处理、快速处理、清洗效率高。

Pluto-MD等离子去胶机 产品介绍： 去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光，紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题，将直接影响后续工艺的顺利完成。PLUTO-MD使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精细控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光