• 匀胶显影机
    匀胶显影机

    匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压(水)辊、涂胶槽等部分组成。

    时间:2021-03-22型号:浏览量:22
  • 无掩模光刻机
    无掩模光刻机

    无掩模光刻机美国AMP(AdvancedMicroPatterning,LLC)公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术,已成为无掩模紫外光刻领域的。国内参考用户较多!

    时间:2021-03-22型号:浏览量:18
  • 全自动曝光机
    全自动曝光机

    全自动曝光机OAI在半导体行业中拥有超过40年的制造经验,通过新的精英级光刻设备满足了日益增长的动态市场挑战。

    时间:2021-03-22型号:浏览量:38
  • 等离子刻蚀机
    等离子刻蚀机

    等离子刻蚀机提供一系列的解决方案来满足客户的生产和开发要求。通过一系列的技术的开发,SPTS能为客户提供一系列的先进的工艺,比如功率MOSFET和200mm和300mm晶圆上的端封装(3D封装和芯片级封装)。

    时间:2021-03-22型号:浏览量:26
  • 手动/半自动曝光机
    手动/半自动曝光机

    手动/半自动曝光机光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;

    时间:2021-03-22型号:浏览量:27
  • IPG激光划片机
    IPG激光划片机

    IPG激光划片机能适应单晶硅、多晶硅、非晶硅电池划片和硅、锗、砷化镓半导体材料的划片和切割。比如厚片(如AP公司0.7mm单晶硅多晶硅;1.2mm非晶硅带等)。

    时间:2021-03-22型号:浏览量:24
  • CMP研磨抛光系统
    CMP研磨抛光系统

    CMP研磨抛光系统,该机型是PM5型的升级版。能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理,整个过程全封闭控制,并内置自清洗功能,提升对操作人员的安全保护;全部采用电脑程序控制,可实现数据传输、工艺存储及数据实时监控与反馈等功能。

    时间:2021-03-22型号:浏览量:21
  • ALD原子层沉积系统
    ALD原子层沉积系统

    ALD原子层沉积系统存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区 有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层 钝化晶体硅太阳能电池

    时间:2021-03-22型号:浏览量:27
  • ADT机械划片机
    ADT机械划片机

    ADT机械划片机具有四种不同的机型可以选择,每个机型分别对具体的应用范围进行了优化,7100系列涵盖了广阔的应用范围,可以提供低廉的成本合理并同时提供先进的切割技术。

    时间:2021-03-22型号:浏览量:31
  • ADT机械划片机 半导体前道仪器设备厂家
    ADT机械划片机 半导体前道仪器设备厂家

    ADT机械划片机-半导体前道仪器设备厂家$n7100系列的2“和4”轴切割系统在工业界提供了空前水平的装备能力和适应性,具有四种不同的机型可以选择,每个机型分别对具体的应用范围进行了优化,7100系列涵盖了广阔的应用范围,可以提供低廉的成本合理并同时提供先进的切割技术。

    时间:2020-08-20型号:浏览量:98
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